提高離化碰撞的方法要么靠額外的電子源來提供,而不是靠陰極發(fā)射出來的二次電子;要么就是利用高頻放電裝置或者施加磁場的方式提高已有電子的離化效率。事實上,真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內,該區(qū)域內等離...
真空鍍膜法在手機消費電子的表面處理中,物li氣相沉積(PVD)是主要的真空鍍膜方法。其原理為:在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層,其沉積粒子束來源于非化學因素,如蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍等。真空不導電電鍍,稱...
由于電鍍企業(yè)經歷近幾年行業(yè)低迷,經濟蕭條的影響后,使得很多企業(yè)背負沉重的訂單壓力,成本壓力,資金壓力等等;由于電鍍企業(yè)下游客戶單位效益不景氣,直接影響到電鍍企業(yè)之前業(yè)務效益;處于非常被動的狀態(tài);一邊是生產需要大量的人力,物力,財力;一邊是貨款收不回來,導致一些...
UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別主要概括如下:一,UV電鍍噴涂工藝簡單、綠色環(huán)保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術。各項指標都按照電鍍行業(yè)的標準做了相應的檢測,各種檢測報告完全符合國內外電鍍行業(yè)的要求。噴金鍍鉻機技術噴涂的制品,具有優(yōu)異的附著力、抗...
在鍍膜領域,鍍膜后薄膜樣品的厚度是影響薄膜性能的一個重要因素。因此,當評價某薄膜樣品的性能時,需要檢測該薄膜樣品不同厚度下的性能。對于真空鍍膜的情形,這往往需要進行多次試樣的制備。而這樣多次制備樣品存在兩個問題:首先,不同次生長的樣品,儀器的狀態(tài)不同,以至于影...
一般來說塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度,真空鍍膜的厚度不超過0.2μm,無法填平基材表面的凹凸不平,得不到理想的鏡面效果,UV涂層厚度達到10-20μm,表面平整度在0.1μm以下,可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。三,獲得更厚的真空電鍍層.用底漆...
UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別主要概括如下:一,UV電鍍噴涂工藝簡單、綠色環(huán)保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術。各項指標都按照電鍍行業(yè)的標準做了相應的檢測,各種檢測報告完全符合國內外電鍍行業(yè)的要求。噴金鍍鉻機技術噴涂的制品,具有優(yōu)異的附著力、抗...
20世紀70年代,在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電,使電解液電解,被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上,因此這種鍍膜的條件,基體必須是電的良導體,而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法,必須把膜材配制成溶液,并能迅速參加...
為什么真空鍍膜可以做成不同的顏色,還有七彩色?下面潤溢真空鍍膜為大家揭曉。因為在真空蒸鍍完之后還要噴一層UV光油面漆,這層面漆上可以做不同的顏色。蒸鍍通過鍍一些硅化物可以做成七彩色,但比較薄,近看可以,遠看不明顯,;濺射通過CSi、CO、Si等物質進行反應鍍可...
真空鍍膜的工藝流程是怎么樣的呢,下面潤溢真空鍍膜小編就來和大家分享一下:1、按鍍膜機操作規(guī)程接通冷卻水和壓縮空氣,打開電源,預熱50分鐘,打開離子轟擊的高頻電源開關預熱;2、將石英片裝入符合要求的被銀夾具中,在烘箱中加熱到170~180℃,保持30分鐘;3、對...
真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比,主要有如下幾點:①膜/基結合力(附著力)強,膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用,使基體受到清洗,jihuo及加熱,既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層,也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時鏟射的加熱和缺陷可引起...
真空鍍膜的工藝流程是怎么樣的呢,下面潤溢真空鍍膜小編就來和大家分享一下:1、按鍍膜機操作規(guī)程接通冷卻水和壓縮空氣,打開電源,預熱50分鐘,打開離子轟擊的高頻電源開關預熱;2、將石英片裝入符合要求的被銀夾具中,在烘箱中加熱到170~180℃,保持30分鐘;3、對...
一般來說塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度,真空鍍膜的厚度不超過0.2μm,無法填平基材表面的凹凸不平,得不到理想的鏡面效果,UV涂層厚度達到10-20μm,表面平整度在0.1μm以下,可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。三,獲得更厚的真空電鍍層.用底漆...
UV是一種鍍膜環(huán)保油墨,UV真空鍍膜簡單理解就是產品要用UV油做環(huán)保鍍膜加工。像一些手機殼內的都是采用這種鍍膜方式的。不然過不了環(huán)保。下面潤溢鍍膜為您介紹下UV真空鍍膜是什么鍍膜。UV真空鍍膜涂料主要由紫外光固化樹脂、單體、光引發(fā)劑、色料、流平劑、附著力促進劑...
真空鍍膜化學氣相沉積是一種化學生長方法,簡稱CVD(ChemicalVaporDeposition)技術。這種方法是把含有構成薄膜元素的一種或幾種化合物的單質氣體供給基片,利用加熱、等離子體、紫外光乃至激光等能源,借助氣相作用或在基片表面的化學反應(熱分解或化...
真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機、濺射鍍膜機相比,比較大的特點是荷能離子一邊轟擊基體與膜層,一邊進行沉積。荷能離子的轟擊作用所產生一系列的效應,主要有如下幾點:①膜/基結合力(附著力)強,膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產生的濺射作用,使基體受到清洗,jihuo及加熱,既可...
為什么真空鍍膜可以做成半透效果而且不導電?并非完全不導電,利用了分子在薄膜狀態(tài)下的不連續(xù)性,金屬或金屬化合物都具有導電性,只是導電率不同。但是,當金屬或金屬化合物呈一種薄膜的狀態(tài)時,其相應的物理特性會有所不同。常規(guī)的鍍膜材料中,如:銀是銀白效果和導電性能比較好...
真空鍍膜技術與濕式鍍膜技術相比較,具有下列優(yōu)點:(1)薄膜和基體選材廣,薄膜厚度可進行控制,以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜,環(huán)境清潔,薄膜不易受到污染,因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結合強度好,薄膜...
真空鍍膜工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍三種。真空蒸鍍,簡稱蒸鍍,是指在真空條件下,采用一定的加熱蒸發(fā)方式蒸發(fā)鍍膜材料(或稱膜料)并使之氣化,粒子飛至基片表面凝聚成膜的工藝方法。離子鍍是真空鍍膜工藝的一項新發(fā)展。普通真空鍍膜(亦稱真空蒸鍍)時,工件夾...
一般來說,塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度,真空鍍膜的厚度不超過0.2μm,無法填平基材表面的凹凸不平,得不到理想的鏡面效果,UV涂層厚度達到10-20μm,表面平整度在0.1μm以下,可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。獲得更厚的真空電鍍層用底漆過渡...
面漆真空鍍層通常較薄(不超過0.2μm),耐磨性等力學性能較差。面漆不僅起到保護鍍層的作用,還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學性能。面漆的主要性能要求包括:(1)對鍍層有較高的附著力,這是涂層起保護作用的基礎;(2)應具有足夠的耐磨性,以保護極薄的真...
真空不導電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空鍍膜就是將塑膠,薄膜等制品置于高真空爐內。對鋁,錫,銦等金屬加熱,使之蒸發(fā)形成金屬氣體,金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā),冷卻后附著于被蒸鍍物表面上,形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金...
辨別一家好的真空鍍膜加工廠,可以大概從如下五個方面加以衡量。1.車間環(huán)境是否具有三級凈化供風系統(tǒng),是否真的無塵車間,人員進出及貨物進出是否嚴格管制走風淋門,風淋門是否能正常工作、車間地板、墻壁、天花、貨架上是否潔凈無灰塵,現(xiàn)場5S是否整潔;2.人員穿著所有人員...
真空鍍膜有幾種方式?潤溢真空鍍膜給大家解答。1:真空蒸發(fā)鍍膜在真空室中加熱蒸發(fā)容器中的原材料,使其原子或分子從表面氣化逸出,形成蒸氣流,入射到待鍍產品表面,凝結形成固態(tài)薄膜的方法。2:離子鍍膜蒸發(fā)源的加熱和蒸發(fā)鍍膜相同。由于系統(tǒng)為等離子狀態(tài),使金屬離子在產...
由于底漆位于基材和鍍膜的中間,其性能應當滿足基材和真空鍍層兩方面的要求,具體包括以下幾個方面:(1)與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性,這是作為真空鍍膜底漆應具備的Z基本性能;(2)應具有良好的流平性,這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關鍵;(3)不...
真空鍍膜的方法很多,主要有:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面,凝結而成薄膜。(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對面,把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內,保持壓強約1....
下面潤溢真空鍍膜小編就來和大家分享一下UV真空鍍膜的工藝流程。1、按鍍膜機操作規(guī)程接通冷卻水和壓縮空氣,打開電源,預熱50分鐘,打開離子轟擊的高頻電源開關預熱;2、將石英片裝入符合要求的被銀夾具中,在烘箱中加熱到170~180℃,保持30分鐘;3、對真空室充氣...
UV真空鍍膜的過程,就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片.氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜.但在實際輝光放電直流濺射系統(tǒng)中,自持放電很...
UV真空電鍍的原理是在高度真空條件下,使金屬鋁片受熱蒸發(fā)并附于(塑料)工件表面﹐形成一層金屬膜的方法﹒真空電鍍的特點:1>真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um),能夠嚴格復制出啤件表面的形狀2>工作電壓不是很高(200V)﹐操作方便﹐但設備...
UV真空鍍膜的過程,就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片.氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜.但在實際輝光放電直流濺射系統(tǒng)中,自持放電很...