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在某些材料的表面上只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學(xué)性能。20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不僅薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技...

UV鍍膜生產(chǎn)工藝的流程及參數(shù)：一：檢查線體，確認(rèn)各系統(tǒng)（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運(yùn)轉(zhuǎn)正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整；五：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時(shí)），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據(jù)需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5...

真空鍍膜加工表面的清潔處理非常重要，直接影響到電鍍的產(chǎn)品品質(zhì)。加工件進(jìn)入鍍膜室前一定要做到認(rèn)真的鍍前清潔處理，表面污染來自工件在加工、傳輸、包裝過程所粘附的各種粉塵、潤滑油、機(jī)油、拋光膏、油脂、汗?jié)n等物，為了避免加工過程中造成的不良，真空鍍加工廠家基本上可采用去油或化學(xué)清冼方法將其去掉。對(duì)經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至更小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔铩Ｕ婵斟兡ぜ庸?duì)于高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。為什么真空鍍膜是非常有前途的技術(shù)之一？中山塑料真...

真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法如下：1、檢查真空鍍膜設(shè)備各操作控制開關(guān)是否在"關(guān)"位置。2、打開總電源開關(guān)，真空鍍膜設(shè)備送電。3、低壓閥拉出。開充氣閥，聽不到氣流聲后，啟動(dòng)升鐘罩閥，鐘罩升起。4、安裝固定鎢螺旋加熱子。把PVDF薄膜和鋁蓋板固定在轉(zhuǎn)動(dòng)圓盤上。把鋁絲穿放在螺旋加熱子內(nèi)。清理鐘罩內(nèi)各部位，保證無任何雜質(zhì)污物。5、落下鐘罩。6、啟動(dòng)真空鍍膜設(shè)備抽真空機(jī)械泵。7、開復(fù)合真空計(jì)電源。1）左旋鈕“1”順時(shí)針旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段的加熱位置。2）低真空表“2”內(nèi)指針順時(shí)針移動(dòng)，當(dāng)指針移動(dòng)至110mA時(shí)，左旋鈕"1"旋轉(zhuǎn)至指向2區(qū)段測量位置。8、當(dāng)?shù)驼婵毡怼?”內(nèi)指針再次順時(shí)針移動(dòng)至6.7Pa時(shí)，低壓閥推入...

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。真空鍍膜機(jī)的真空鍍膜技術(shù)在很大程度上決定著燈的性能和使用壽命。這對(duì)于霓虹燈也不例外，在霓虹燈的制造中，真空鍍膜設(shè)備真空技術(shù)是決定霓虹燈質(zhì)量的關(guān)鍵因素之一。因此，對(duì)于霓虹燈制造來說，了解真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)的物理內(nèi)容、熟悉真空工藝和材料、熟練掌握真空系統(tǒng)的正確操作是十分有必要的。霓虹燈制造中對(duì)于真空鍍膜機(jī)真空技術(shù)的要求與一般電光源制造中對(duì)于真空鍍膜技術(shù)的要求幾乎是相同的，即獲得真空與保持真空。真空鍍膜時(shí)顏色靠什么控制？廣州uv真空鍍膜加工廠真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍...

真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜，它的主要方法包括以下幾種：真空蒸鍍其原理是在真空條件下，用蒸發(fā)器加熱帶蒸發(fā)物質(zhì)，使其氣化或升華，蒸發(fā)離子流直接射向基片，并在基片上沉積析出固態(tài)薄膜的技術(shù)。濺射鍍膜濺射鍍膜是真空條件下，在陰極接上2000V高壓電，激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基片上形成膜層。離子鍍膜真空離子鍍膜，它是在上面兩種真空鍍膜技術(shù)基礎(chǔ)上發(fā)展而來的，因此兼有兩者的工藝特點(diǎn)。在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)（膜材）部分離化，并在離子轟擊下，將蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉積在基片表面。在膜的形成過程中，基片始終受到高能粒子的轟擊，十分清潔...

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)突破性技術(shù)，利用物理或者化學(xué)方法并吸收一系列新技術(shù)而成的工藝，目的就是為了在實(shí)際生產(chǎn)中為產(chǎn)品創(chuàng)造薄膜保護(hù)層。工藝主要分為真空蒸鍍、磁控濺射鍍膜、離子鍍?nèi)N。為什么需要進(jìn)行真空鍍膜呢？這項(xiàng)工藝已經(jīng)成為了電子元器件制造中的一項(xiàng)不可或缺的技術(shù)，主要是為了使產(chǎn)品表面具有耐磨損耐高溫，耐腐蝕等優(yōu)于產(chǎn)品本身的性能，從而提高產(chǎn)品的質(zhì)量，延長加工產(chǎn)品的使用壽命，不只如此，還可以節(jié)約能源，獲得更為明顯的技術(shù)經(jīng)濟(jì)效益。實(shí)際應(yīng)用中，我們往往會(huì)根據(jù)產(chǎn)品的性質(zhì)來決定選用哪種真空鍍膜工藝。潤溢真空鍍膜為你解析UV噴涂真空鍍膜工藝流程。山東玻璃真空鍍膜公司UV真空鍍膜系列產(chǎn)品是我公司將光固化涂料...

UV電鍍噴涂與塑料真空鍍膜的區(qū)別主要概括如下：一，UV電鍍噴涂工藝簡單、綠色環(huán)保、用途普遍、是一種原料可回收利用的表面處理技術(shù)。各項(xiàng)指標(biāo)都按照電鍍行業(yè)的標(biāo)準(zhǔn)做了相應(yīng)的檢測，各種檢測報(bào)告完全符合國內(nèi)外電鍍行業(yè)的要求。噴金鍍鉻機(jī)技術(shù)噴涂的制品，具有優(yōu)異的附著力、抗沖擊力、耐氣候性、耐磨性和耐擦傷性，符合國內(nèi)外大型汽車生產(chǎn)商和大型電器生產(chǎn)商等精密產(chǎn)品的要求，亦可作為其它行業(yè)的表面裝飾和保護(hù)等噴涂。該技術(shù)填補(bǔ)了目前國內(nèi)市場環(huán)保電鍍的空白二，塑料真空鍍膜塑料具有質(zhì)輕、性能優(yōu)良，易成型，易加工等特點(diǎn)，應(yīng)用范圍非常廣，是日常生活和國民經(jīng)濟(jì)各部門不可缺少的材料。常用的幾種塑料真空鍍膜材料。順德燈飾真空鍍膜流程...

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既...

真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空鍍膜就是將塑膠，薄膜等制品置于高真空爐內(nèi)。對(duì)鋁，錫，銦等金屬加熱，使之蒸發(fā)形成金屬氣體，金屬氣體在高真空條件下自由散發(fā)，冷卻后附著于被蒸鍍物表面上，形成金屬薄膜。 真空鍍膜為什么要噴底漆和面漆?真空鍍膜前噴底漆能增加金屬層和塑材之間的附著度，使塑材表面平坦光滑。電鍍后光澤度好。-真空鍍膜后噴面漆起保護(hù)鍍層，防止氧化，污染。增強(qiáng)表面耐磨。耐刮性能。通過增加染料等物質(zhì)達(dá)到表面美觀多樣化的目的。-真空不導(dǎo)電電鍍和普通真空電鍍有何區(qū)別?真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM。普通真空電鍍習(xí)慣稱PVD。真空不導(dǎo)電電鍍的加工工藝緣于普通真空電鍍，卻比其制程復(fù)雜的多，主要區(qū)別...

除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(...

真空鍍膜的方法主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。白電油浸泡清洗是目前ABS塑料...

UV鍍膜生產(chǎn)工藝流程及參數(shù)：一：檢查線體，確認(rèn)各系統(tǒng)（除塵、噴槍、壓縮空氣、紅外加熱和UV固化）運(yùn)轉(zhuǎn)正常；二：清洗基材表面，去除油污（用干凈無塵布蘸白電油或異丙醇擦拭表面，并立即干燥）；三：基材靜電除塵；四：噴涂底漆，膜厚：10～30微米，可根據(jù)具體基材和要求調(diào)整；五：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～15分鐘；六：UV固化，曝光能量：600～1200mJ/cm2；七：下線，稍冷卻，真空鍍膜（銦、銦-錫、鋁等）；八：鍍膜完畢靜置冷卻（一般≥5分鐘，不超過4小時(shí)），再上中漆線體，或直接上面漆線體；九：噴涂中漆，膜厚：4～12微米，可根據(jù)需要添加色漿；十：在30℃～70℃的紅外環(huán)境下的流平5～...

由于光固化體系的固化過程是由光引發(fā)的，因此光固化體系也有如下缺點(diǎn)：固化深 度受限；在有色體系和不透明材質(zhì)中難以應(yīng)用；固化對(duì)象的形狀不能太復(fù)雜。為此又發(fā) 展了將光固化與其它固化方式結(jié)合起來的雙重固化體系。在此體系中，體系的交聯(lián)或聚 合反應(yīng)是通過兩個(gè)的具有不同反應(yīng)原理的階段來完成的。其中一個(gè)階段是通過紫外 光反應(yīng)，另一階段是通過熱固化、濕氣固化、氧化固化或厭氧固化等暗反應(yīng)來進(jìn)行的。 這樣就可以利用紫外光使體系快速定型或達(dá)到“表干”，而利用暗反應(yīng)使“陰影”部分 或內(nèi)層充分固化，達(dá)到“實(shí)干雙重固化擴(kuò)展了紫外光固化膠粘劑在不透明介質(zhì)間、 形狀復(fù)雜的基材超厚膠層及有色膠層中的應(yīng)用。此種體系賦予紫外光固化膠...

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既...

在塑料表面進(jìn)行真空噴鍍金屬 -----即在真空狀態(tài)下，將金屬融化后，以分子或原子形態(tài)沉積在塑料表面形成 5-10um 的金屬膜。真空噴鍍金屬需要與塑料表面底漆之間良好的配合， 底漆的厚度通常為 10-20um。主要作用是防止塑料中水、 有機(jī)溶劑、 增塑劑等排出影響金屬附著。要涂層硬度高、 底漆具有可以修復(fù)塑料缺陷，提供一個(gè)光滑、平整的平面以利于真空鍍的性能， 并與塑料底材和所鍍金屬附著牢固。通常選用雙組份常溫固化的聚氨酯和環(huán)氧涂料， 低溫烘烤的氨基涂料以及熱塑性丙烯酸酯涂料。金屬鍍膜在空氣中容易氧化變暗， 同時(shí)還存在細(xì)微的針型孔等缺陷， 所以要再涂上一層 5-10um 的保護(hù)面漆。對(duì)面漆的要求...

獲得了真空并不意味著真空就能保持。事實(shí)上，即使不存在漏氣的燈管，在抽走管內(nèi)氣體之后，燈管的內(nèi)壁、電極等表面上都仍然吸附著大量的氣體：他們?cè)谝欢ǖ臈l件下會(huì)釋放出來，使燈管內(nèi)的真空度變底，所以在霓虹燈的制造過程中，還必須采用有關(guān)的真空技術(shù)把這些吸附氣體除去，確保玻璃管內(nèi)壁及燈管內(nèi)器件不會(huì)在使用過程中放氣，影響燈管的穩(wěn)定工作及使用壽命。所以，在霓虹燈制造中，真空技術(shù)是重要的。燈管內(nèi)真空的破壞可以由于抽氣不徹底造成，或者由于溫度升高導(dǎo)致本材料放氣，電子、離子轟擊使材料和電極放氣造成，或者也可由管子的慢性漏氣所造成。要得到質(zhì)量穩(wěn)定、實(shí)用的霓虹燈，必須在原材料的選擇、零部件的加工、處理、電極的裝配以及的排...

由于底漆位于基材和鍍膜的中間，其性能應(yīng)當(dāng)滿足基材和真空鍍層兩方面的要求，具體包括以下幾個(gè)方面：（1）與塑料基材、真空鍍層均有較好的粘附性，這是作為真空鍍膜底漆應(yīng)具備的Z基本性能;（2）應(yīng)具有良好的流平性，這是決定真空鍍層是否具有高光澤和鏡面效果的關(guān)鍵;（3）不應(yīng)含有揮發(fā)性小分子，主要是指殘留單體、揮發(fā)性添加劑、揮發(fā)性雜質(zhì)和高沸點(diǎn)溶劑等，其在真空升溫環(huán)境下會(huì)逐漸逸出，從多方面破壞鍍膜質(zhì)量和性能;（4）應(yīng)具有一定的耐熱性，其熱膨脹性要和真空鍍層的熱脹冷縮性能相適應(yīng)，抗熱形變和熱分解性能應(yīng)滿足真空鍍膜工藝的要求;（5）對(duì)于柔性基材，底涂應(yīng)具有足夠的柔韌性，否則易造成鍍層連帶開裂，甚至崩脫UV真空鍍膜...

20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不只薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。真空鍍膜的工藝流程。北京電子真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜法在手機(jī)消費(fèi)電子的表面處理中，...

面漆真空鍍層通常較薄(不超過0.2μm)，耐磨性等力學(xué)性能較差。面漆不僅起到保護(hù)鍍層的作用，還可賦予真空鍍膜制品良好的硬度、耐磨性等力學(xué)性能。面漆的主要性能要求包括：（1）對(duì)鍍層有較高的附著力，這是涂層起保護(hù)作用的基礎(chǔ);（2）應(yīng)具有足夠的耐磨性，以保護(hù)極薄的真空鍍層免受機(jī)械擦傷;（3）具有較高的阻隔性，即本身要具有較好的耐水、耐腐蝕性及耐候性，阻止氧氣等對(duì)鍍膜有腐蝕性的物質(zhì)直接接觸真空鍍層，保護(hù)鍍層免受腐蝕;（4）面漆組成本身不能含有可能腐蝕鍍層的組分或雜質(zhì);（5）對(duì)于需要突出光亮度的真空鍍膜場合，面漆也應(yīng)保證有較高的透明性和表面光澤。某些真空鍍膜工藝無需面漆，如鍍膜材料為鉻、不銹鋼時(shí)，其鍍層...

真空鍍膜的工藝流程是怎么樣的呢，下面潤溢真空鍍膜小編就來和大家分享一下：1、按鍍膜機(jī)操作規(guī)程接通冷卻水和壓縮空氣，打開電源，預(yù)熱50分鐘，打開離子轟擊的高頻電源開關(guān)預(yù)熱；2、將石英片裝入符合要求的被銀夾具中，在烘箱中加熱到170~180℃，保持30分鐘；3、對(duì)真空室充氣，并升起真空罩，清理真空室，按擋板鍵，移開擋板，在鉬舟中加入所要求的銀絲，并檢查轟擊圈與修正版的位置是否正確，插入已預(yù)熱好的裝有石英片的被銀夾具，迅速降下真空罩，抽低真空和高真空，待真空度達(dá)到≤6.67×10-3Pa。4、按模架旋轉(zhuǎn)按鈕，打開轟擊高頻電源的板壓開關(guān)，打開針閥通入干燥干凈的氬氣或空氣，使真空度達(dá)3~5×10-4乇（...

除化學(xué)氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點(diǎn)：(1)各種鍍膜技術(shù)都需要一個(gè)特定的真空環(huán)境，以保證制膜材料在加熱蒸發(fā)或?yàn)R射過程中所形成蒸氣分子的運(yùn)動(dòng)，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質(zhì)的不良影響。(2)各種鍍膜技術(shù)都需要有一個(gè)蒸發(fā)源或靶子，以便把蒸發(fā)制膜的材料轉(zhuǎn)化成氣體。由于源或靶的不斷改進(jìn)，擴(kuò)大了制膜材料的選用范圍，無論是金屬、金屬合金、金屬間化合物、陶瓷或有機(jī)物質(zhì)，都可以蒸鍍各種金屬膜和介質(zhì)膜，而且還可以同時(shí)蒸鍍不同材料而得到多層膜。(3)蒸發(fā)或?yàn)R射出來的制膜材料，在與待鍍的工件生成薄膜的過程中，對(duì)其膜厚可進(jìn)行比較精確的測量和控制，從而保證膜厚的均勻性。(...

隨著工業(yè)的迅速發(fā)展，塑料電鍍的應(yīng)用日益普遍，成為塑料產(chǎn)品中表面裝飾的重要手段之一。目前國內(nèi)外已普遍在ABS、聚丙烯、聚砜、聚碳酸酯、尼龍、酚醛玻璃纖維增強(qiáng)塑料、聚苯乙烯等塑料表面上進(jìn)行電鍍，其中尤以ABS塑料電鍍應(yīng)用廣，電鍍效果好。塑料電鍍外觀要求比金屬制品的電鍍面更光潔，光亮度一般都能達(dá)到，但在其程度上就有一定的差別。通常認(rèn)為，較好的塑料電鍍外觀是亮中發(fā)“烏黑”，光亮度視覺感很“厚實(shí)”。這種宏觀感覺是由表面的微觀狀態(tài)所決定的，也就是說微觀表面必須非常平整。塑料電鍍的鍍層不能有霧狀存在，極輕微的霧狀，在強(qiáng)光下或正視時(shí)是發(fā)現(xiàn)不了的，要在特定的角度和光線下才能發(fā)現(xiàn)，因此易被忽視。至于露塑、脫皮、毛...

真空鍍膜的方法主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣達(dá)到約13.3Pa而使蒸氣分子飛到基體表面，凝結(jié)而成薄膜。(2)陰極濺射鍍：將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面，把惰性氣體(如氬)通入已抽空的室內(nèi)，保持壓強(qiáng)約1.33～13.3Pa，然后將陰極接上2000V的直流電源，便激發(fā)輝光放電，帶正電的氬離子撞擊陰極，使其射出原子，濺射出的原子通過惰性氣氛沉積到基體上形成膜。(3)化學(xué)氣相沉積：通過熱分解所選定的金屬化合物或有機(jī)化合物，獲得沉積薄膜的過程。(4)離子鍍：實(shí)質(zhì)上離子鍍系真空蒸鍍和陰極濺射鍍的有機(jī)結(jié)合，兼有兩者的工藝特點(diǎn)。一分鐘告訴你什么叫真空鍍膜！上...

真空鍍膜與蒸發(fā)鍍膜機(jī)、濺射鍍膜機(jī)相比，比較大的特點(diǎn)是荷能離子一邊轟擊基體與膜層，一邊進(jìn)行沉積。荷能離子的轟擊作用所產(chǎn)生一系列的效應(yīng)，主要有如下幾點(diǎn)：①膜/基結(jié)合力（附著力）強(qiáng)，膜層不易脫落。由于離子轟擊基體產(chǎn)生的濺射作用，使基體受到清洗，jihuo及加熱，既可以去除基體表面吸附的氣體和污染層，也可以去除基體表面的氧化物。離子轟擊時(shí)鏟射的加熱和缺陷可引起基體的增強(qiáng)擴(kuò)散效應(yīng)。既提高了基體表面層組織結(jié)晶性能，也提供了合金相形成的條件。而且，較高能量的離子轟擊，還可以產(chǎn)生一定的離子注入和離子束混合效應(yīng)。②離子鍍膜機(jī)由于產(chǎn)生良好的繞射性。在壓力較高的情況下（≧1Pa）被電離的蒸汽的離子或分子在到達(dá)基體前...

真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材廣，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。真空鍍膜附著力差的原因。杭州工藝品真空鍍膜真空鍍膜的方法很多，主要有：(1)真空蒸鍍：將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室，抽空后將膜料加熱到高溫，使蒸氣...

一般來說，塑料表面本身具有0.51nn左右的粗糙度，真空鍍膜的厚度不超過0.2μm，無法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達(dá)到10-20μm，表面平整度在0.1μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。獲得更厚的真空電鍍層用底漆過渡,有利于獲得更厚獲得更厚的鍍層,使產(chǎn)品得到更高的反射效果和力學(xué)性能。真空鍍膜的附著性.對(duì)于一些極性較差的塑膠,通過底漆過渡,可以獲得較強(qiáng)的鍍層附著性。真空鍍膜的耐熱性.塑膠熱變形溫度一般較低,通過底漆過渡,可以起到一定的熱緩沖作用,保護(hù)塑膠免遭熱變形。真空鍍膜怎么控制顏色？四川玩具真空鍍膜設(shè)備因?yàn)樵谡婵照翦兺曛筮€要噴一層UV光油面漆，這...

與濕式鍍膜技術(shù)相比較，真空鍍膜技術(shù)具有下列優(yōu)點(diǎn)：(1)薄膜和基體選材廣，薄膜厚度可進(jìn)行控制，以制備具有各種不同功能的功能性薄膜。(2)在真空條件下制備薄膜，環(huán)境清潔，薄膜不易受到污染，因此可獲得致密性好、純度高和涂層均勻的薄膜。(3)薄膜與基體結(jié)合強(qiáng)度好，薄膜牢固。(4)干式鍍膜既不產(chǎn)生廢液，也無環(huán)境污染。真空鍍膜技術(shù)主要有真空蒸發(fā)鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學(xué)氣相沉積等多種方法。真空鍍膜技術(shù)與濕式鍍膜技術(shù)相比較，具有上述一些優(yōu)點(diǎn)。真空鍍膜技術(shù)初現(xiàn)于20世紀(jì)30年代,四五十年代開始出現(xiàn)工業(yè)應(yīng)用。廣東燈飾真空鍍膜設(shè)備pvd真空電鍍具備沉積速度更快和表層清理的特性，尤其具備膜層粘合...

真空鍍膜加工清理鍍膜室內(nèi)的灰塵，設(shè)置清潔度高的工 作間，保持室內(nèi)高度清潔是鍍膜工藝對(duì)環(huán)境的基本要求?？諝鉂穸却蟮牡貐^(qū)，除鍍前要對(duì)基片、真空室內(nèi)各部 件認(rèn)真清洗外，還要進(jìn)行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內(nèi)，注意油擴(kuò)散泵返油，對(duì)加熱功率高的擴(kuò)散泵必須 采取擋油措施。對(duì)經(jīng)過清洗處理的清潔表面，不能在大氣環(huán)境中存放，要用封閉容器或保潔柜貯存，以減小灰塵的沾污。用剛 氧化的鋁容器貯存玻璃襯底，可使碳?xì)浠衔镎魵獾奈綔p至很小。因?yàn)檫@些容器優(yōu)先吸附碳?xì)浠衔?。真空鍍膜加工?duì)于 高度不穩(wěn)定的、對(duì)水蒸氣敏感的表面，一般應(yīng)貯存在真空干燥箱中。在ABS真空電鍍中,底漆或面漆經(jīng)常會(huì)選擇UV漆,因?yàn)閁V在ABS底材的附...

20世紀(jì)70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學(xué)鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個(gè)電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導(dǎo)體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學(xué)還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應(yīng)，這種鍍膜方法不只薄膜的結(jié)合強(qiáng)度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時(shí)還會(huì)產(chǎn)生大量的廢液，造成嚴(yán)重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。真空鍍膜加工產(chǎn)品時(shí)為什么會(huì)發(fā)生掉膜的現(xiàn)象？杭州樹脂真空鍍膜系統(tǒng)真空鍍膜機(jī)操作程...