NanoscribeQuantumXalign作為前列的3D打印系統(tǒng)具備了A2PL?對準雙光子光刻技術,可實現在光纖和光子芯片上的納米級精確對準。全新灰度光刻3D打印技術3Dprintingby2GL?在實現優(yōu)異的打印質量同時兼顧打印速度,適用于微光學制造和光...
QuantumXshape是一款真正意義上的全能機型?;陔p光子聚合技術,該激光直寫系統(tǒng)不只是快速成型制作的特別好的機型,同時適用于基于晶圓上的任何亞微米精度的2.5D及3D形狀的規(guī)?;a。QuantumXshape在3D微納加工領域非常出色的精度,比肩于N...
我們往往需要通過灰度光刻的方式來實現微透鏡陣列結構,灰度光刻的就是利用灰度光刻掩膜版(掩膜接觸式光刻)或者計算機控制激光束或者電子束劑量從而達到在某些區(qū)域完全曝透,而某些區(qū)域光刻膠部分曝光,從而在襯底上留下3D輪廓形態(tài)的光刻膠結構(如下圖4所示,八邊金字塔結構...
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(2PP)的專業(yè)激光直寫系統(tǒng),可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加...
近年來,實現微納尺度下的3D灰度光刻結構在包括微機電(MEMS)、微納光學及微流控研究領域內備受關注,良好的線性側壁灰度結構可以很大程度上提高維納器件的靜電力學特性,信號通訊性能及微流通道的混合效率等。相比一些獲取灰度結構的傳統(tǒng)手段,如超快激光刻蝕工藝、電化學...
Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)QuantumX,適用于制造微光學衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級雙光子灰度光刻無掩模光刻系統(tǒng)Quant...
雙光子聚合(2PP)是一種可實現比較高精度和完全設計自由度的增材制造方法。而作為同類比較好的3D微加工系統(tǒng)QuantumXshape具有下列優(yōu)異性能:首先,在所有空間方向上低至100納米的特征尺寸控制,適用于納米和微米級打?。黄浯沃谱鞲哌_50毫米的目標結構,適...
Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直...
Nanoscribe成立于2007年,是卡爾斯魯厄理工學院(KIT)的衍生公司。Nanoscribe憑借其過硬的技術背景和市場敏銳度奠定了其市場優(yōu)先領導地位,并以高標準來要求自己以滿足客戶的需求。Nanoscribe將在未來在基于雙光子聚合技術的3D微納加工系...
世界上頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX實現了2D和2.5D微納結構的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術的精度和靈活性相結合,從而達到亞微米分辨率并實現對體素大小的超快控制,自動化打印以及特別...
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和...
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,...
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2提供世界上分辨率非常高的3D無掩模光刻技術,用于快速,精度非常高的微納加工,可以輕松3D微納光學制作。可以搭配不同的基板,包括玻璃,硅晶片,光子和微流控芯片等,也可以實現芯片和光纖上直接打印。...
Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結構增材制造**,一直致力于開發(fā)和生產和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應用不同解決方案。在全球頂端大學和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500多名用戶在使用我們突破性的3D微納加工技術和定制應用解決方...
采用增材制造技術的情況下,導管的設計空間得以提升,例如可以設計為擁有螺旋形狀的結構,可以將導管橫截面設計為多邊形,也可以在部件內集成多個導管,至少一個可具有圓形橫截面,還可以再導管內表面上制造一組凸起的表面特征,這組凸起的表面特征可以延伸到導管的內部區(qū)域中。與...
作為納米、微米和介觀尺度高分辨率3D微納加工的關鍵技術,雙光子聚合技術(2PP)能在高速打印的同時確保高精度制作。結合極高設計自由度的特點,2PP高精度增材制造推動著未來技術在例如生命科學、微流體、材料工程、微機械 和MEMS等科研和工業(yè)領域應用的發(fā)展。Nan...
Nanoscribe公司的PhotonicProfessionalGT2系統(tǒng)把雙光子聚合技術融入強大了3D打印工作流程,實現了各種不同的打印方案。雙光子聚合技術用于3D微納結構的增材制造,可以通過激光直寫而避免使用昂貴的掩模版和復雜的光刻步驟來創(chuàng)建3D和2.5...
QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具,可實現通過簡單工作流程進行高精度和高設計自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產品,QuantumXshape提升了3D微納加工能力,即完美平衡精度和...
光子集成電路(PhotonicIntegratedCircuit,PIC)與電子集成電路類似,但不同的是電子集成電路集成的是晶體管、電容器、電阻器等電子器件,而光子集成電路集成的是各種不同的光學器件或光電器件,比如激光器、電光調制器、光電探測器、光衰減器、光復...
因Nanoscribe公司的加入使得CELLINK集團成為世界上頭一家擁有雙光子聚合(2PP)增材制造能力的生物科技公司。Nanoscribe公司的2PP技術能夠在亞細胞尺度上對血管微環(huán)境進行生物打印,適用于細胞研究和芯片實驗室應用。該技術未來也將助力集團的相...
Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無掩模光刻系統(tǒng)的設計多功能性配合打印材料的多方面選擇性,可以實現微機械元件的制作,例如用光敏聚合物,納米顆粒復合物,或水凝膠打印的遠程操控可移動微型機器人,并可以選擇添加金屬涂層。此外,...
QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng),用于快速原型制作和晶圓級批量生產,以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產領域的潛力。作為2019年推出的頭一臺雙光子灰度光刻(2GL?)系統(tǒng)QuantumX的同系列產品,Quantu...
相較于傳統(tǒng)生產方式,增材制造能有效降低生產成本與進入門檻。舉例來說,制造業(yè)應用廣的CNC數控機床加工在全球范圍內存在人才短缺問題,且其必備的專業(yè)操作人員是沉重的人力成本來源,這也是中小型生產廠家難以與規(guī)模較大的競爭對手匹敵的重要原因。與之形成對比的增材制造技術...
榮獲多個獎項的德國Nanoscribe公司開發(fā)并銷售的3D打印機是高度專業(yè)化的綜合解決方案,在科學和工業(yè)領域,有1,000多位用戶正在使用這種空前的全新應用。這包括為微創(chuàng)手術打印顯微針、附加生產微鏡頭陣列、以及生產芯片上微光學元件。每周都有新的科學文獻強調應用...
售后支持和服務擁有超過14年的微加工技術經驗,我們的技術支持團隊努力在短的時間內為客戶提供好的支持。在德國總部,中國分公司和美國分公司,以及通過Nanoscribe認證的經銷商提供的銷售服務和技術支持。我們的跨學科和多語言技術支持團隊為客戶提供各方面的支持:裝...
Nanoscribe的PhotonicProfessional設備可用于將不同折射率的龍勃透鏡和其他自由形狀的光學組件打印于微孔支架材料上(例如孔狀硅材及二氧化硅)。突出特點是不再像常規(guī)的雙光子聚合(2PP)那樣在基體表面進行直寫,而是在孔型支架內。通過調整直...
雙光子聚合技術的應用前景:1. 快速3D打?。弘p光子聚合技術可以用于快速3D打印。通過這種技術,可以實現高精度、高分辨率的3D打印,從而制造出更加精細、復雜的結構。這使得3D打印技術可以應用于更多領域,包括航空航天、醫(yī)療等高精度制造領域。2. 光子晶體形成:雙...
雙光子聚合是物質在發(fā)生雙光子吸收后所引發(fā)的光聚合過程。雙光子吸收是指物質的一個分子同時吸收兩個光子的過程,只能在強激光作用下發(fā)生,是一種強激光下光與物質相互作用的現象,屬于三階非線性效應的一種。雙光子吸收的發(fā)生主要在脈沖激光所產生的特別強激光的焦點處,光路上其...
光學元件如何對準并打印到光子芯片上?打印對象的 3D 對準技術是基于具有高分辨率 3D 拓撲繪制的共聚焦單元。 為了精確對準光子芯片上的光學元件,智能軟件算法會自動識別預定義的標記和拓撲特征,以確定芯片上波導的確切位置和方向。 然后將虛擬坐標系設置到波導的出口...
隨著科技的不斷進步,雙光子聚合激光直寫技術正以驚人的速度改變著我們的生活。這項創(chuàng)新技術利用雙光子效應,通過高能量激光束直接寫入材料表面,實現了高精度、高效率的微納加工。它不僅在微電子、光電子、生物醫(yī)學等領域展現出巨大潛力,還為我們帶來了無限的想象空間。雙光子聚...