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什么是接觸角？液滴在固體的表面達(dá)到平衡時(shí)，在氣、液、固三相交界處，氣、液界面 和液固界面之間的夾角稱(chēng)為接觸角。接觸角是表征材料表面潤(rùn)濕性能的主要手段。晟鼎接觸角測(cè)量?jī)x采用雙邊測(cè)量，接觸角取平均值，確保數(shù)據(jù)的準(zhǔn)確性。接觸角親疏水性：①親水表面接觸角小于65度；②...

在科研和工業(yè)領(lǐng)域，對(duì)于材料表面性能的研究日益深入，特別是對(duì)大尺寸材料表面潤(rùn)濕性的評(píng)估，成為了一個(gè)重要的研究方向。為了滿(mǎn)足這一需求，大尺寸接觸角測(cè)量?jī)x應(yīng)運(yùn)而生。這種測(cè)量?jī)x不僅具備傳統(tǒng)接觸角測(cè)量?jī)x的功能，而且能夠應(yīng)對(duì)更大尺寸的樣品，為科研人員提供了更為廣闊的研究空...

高溫接觸角測(cè)量?jī)x是一種特殊的儀器，能夠在高溫條件下測(cè)量液滴與固體表面之間的接觸角。這種儀器在化學(xué)、材料科學(xué)、醫(yī)藥等領(lǐng)域有廣泛的應(yīng)用，尤其是在研究高溫化學(xué)反應(yīng)和材料性能方面。高溫接觸角測(cè)量?jī)x通常由以下幾個(gè)部分組成：高溫樣品臺(tái)、光學(xué)系統(tǒng)和液滴控制器。高溫樣品臺(tái)用于...

晟鼎精密的水滴角的測(cè)試方法主要是有幾種：寬高法，圓法，橢圓法，微分圓法，微分橢圓法。測(cè)值更為直接準(zhǔn)確的是晟鼎精密自主研發(fā)的微分圓法，微分橢圓法.水滴角測(cè)試方法的原理主要是將液滴滴到固體表面，通過(guò)顯微鏡頭與相機(jī)獲得液滴的外形圖像.再運(yùn)用數(shù)字圖像處理和一些算法將圖...

影響接觸角測(cè)試結(jié)果的幾個(gè)因素：平衡時(shí)間、溫度.一、平衡時(shí)間當(dāng)體系未達(dá)平衡時(shí)候，接觸角會(huì)發(fā)生變化，此時(shí)的接觸角稱(chēng)為動(dòng)態(tài)接觸角.動(dòng)態(tài)接觸角研究對(duì)于一些粘度較大的液體在固體平面上的流動(dòng)或鋪展有重要意義.二、溫度對(duì)于溫度變化較大的體系，由于表面張力的變化，接觸角也會(huì)發(fā)...

快速退火爐（芯片熱處理設(shè)備）廣泛應(yīng)用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導(dǎo)體和功率器件等多種芯片產(chǎn)品的生產(chǎn)，和歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物生長(zhǎng)、消除應(yīng)力和致密化等工藝當(dāng)中，通過(guò)快速熱處理以改善晶體結(jié)構(gòu)和光電性能，技術(shù)指標(biāo)高、工藝復(fù)雜、**性強(qiáng)。...

RTP-Table-6為桌面型6英寸晶圓快速退火爐，使用上下兩層紅外鹵素?zé)艄?作為熱源加熱，內(nèi)部石英腔體保溫隔熱，腔體外殼為水冷鋁合金，使得制品加熱均勻，且表面溫度低。6英寸晶圓快速退火爐采用PID控制，系統(tǒng)能快速調(diào)節(jié)紅外鹵素?zé)艄艿妮敵龉β?，控溫更加?zhǔn)確。桌面...

在半導(dǎo)體制造行業(yè)，等離子清洗機(jī)被廣泛應(yīng)用于晶圓清洗、封裝前處理等環(huán)節(jié)。通過(guò)去除芯片表面的微小顆粒、有機(jī)物殘留和金屬離子等污染物，確保芯片的純凈度和可靠性，提高成品率和性能。在精密機(jī)械領(lǐng)域，等離子清洗技術(shù)用于清洗精密零件表面，去除油漬、銹跡和氧化物等，改善零件的...

等離子表面處理技術(shù)在光伏電池制程中也有著廣泛的應(yīng)用，可用于玻璃基板表面活化，陽(yáng)極表面改性，涂保護(hù)膜前處理等，在提高光伏元件表面親水性、附著力等方面具有明顯的優(yōu)勢(shì)。大氣等離子清洗機(jī)SPA-2800采用穩(wěn)定性高的移相全橋軟開(kāi)關(guān)電路，擁有穩(wěn)定的模擬通信數(shù)據(jù)傳輸方式，...

在電子電路行業(yè)中，PCB作為電子產(chǎn)品的主要部件，其表面粘附性對(duì)產(chǎn)品的性能有著直接影響。通過(guò)等離子處理，可以提高錫膏與PCB之間的粘附力。有助于確保錫膏印刷的均勻性和穩(wěn)定性，提高電子產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。在PCBA涂敷三防漆前處理中，等離子技術(shù)也發(fā)揮著關(guān)鍵作用。...

等離子體是物質(zhì)的一種狀態(tài)，也叫做物質(zhì)的第四態(tài)，并不屬于常見(jiàn)的固液氣三態(tài)。對(duì)氣體施加足夠的能量使之離化便成為等離子狀態(tài)。等離子體的“活性”組分包括：離子、電子、原子、活性基團(tuán)、激發(fā)態(tài)的核素（亞穩(wěn)態(tài)）、光子等。等離子清潔機(jī)就是通過(guò)利用這些活性組分的性質(zhì)來(lái)處理樣品表...

片式真空等離子清洗機(jī)針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)，DB/WB工藝、RDL工藝、Molding工藝、FlipChip(FC)倒裝工藝等，能夠大幅提高其表面潤(rùn)濕性，保證后續(xù)工藝質(zhì)量，從而提高封裝工藝的可靠性。設(shè)備優(yōu)勢(shì)：1.一體式電極板結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，等離子體密度高，均勻性好，處理效果...

半導(dǎo)體快速退火爐（Rapid Thermal Processing）的應(yīng)用領(lǐng)域在于對(duì)半導(dǎo)體材料的處理。無(wú)論是硅（Si）、鍺（Ge）等傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料，還是氮化鎵（GaN）、碳化硅（SiC）等寬禁帶半導(dǎo)體材料，快速退火爐都能發(fā)揮其獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。在高溫下，半導(dǎo)體材料會(huì)發(fā)...

Plasma封裝等離子清洗機(jī)作為精密制造中的關(guān)鍵設(shè)備之一，其市場(chǎng)需求持續(xù)增長(zhǎng)。特別是在微電子、半導(dǎo)體、光電、航空航天等高科技領(lǐng)域，Plasma封裝等離子清洗機(jī)的應(yīng)用前景更加廣闊。據(jù)市場(chǎng)研究機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)，未來(lái)幾年內(nèi)，全球Plasma封裝等離子清洗機(jī)市場(chǎng)將保持快速增長(zhǎng)...

在線式真空等離子清洗機(jī)的優(yōu)勢(shì)：載臺(tái)升降可自由按料盒每層的間距設(shè)定；載臺(tái)實(shí)現(xiàn)寬度定位，電機(jī)根據(jù)程序參數(shù)進(jìn)行料盒寬度調(diào)節(jié)；推料舍片具有預(yù)防卡料及檢測(cè)功能，根據(jù)產(chǎn)品寬度切換配方進(jìn)行傳送；同時(shí)每次清洗4片，雙工位腔體平臺(tái)交替，實(shí)現(xiàn)清洗與...

等離子清洗工藝具有效果明顯、操作簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)，在電子封裝(包括半導(dǎo)體封裝、LED封裝等)中得到了廣泛的應(yīng)用。LED封裝工藝過(guò)程中,芯片表面的氧化物及顆粒污染物會(huì)降低產(chǎn)品質(zhì)量,如果在封裝工藝過(guò)程中的點(diǎn)膠前、引線鍵合前及封裝固化前進(jìn)行等離子清洗,則可有效去除這些污染...

光刻膠的去除在IC制造工藝流程中占非常重要的地位，其成本約占IC制造工藝的20-30%，光刻膠去膠效果太弱影響生產(chǎn)效率，去膠效果太強(qiáng)容易造成基底損傷，影響整個(gè)產(chǎn)品的成品率。傳統(tǒng)主流去膠方法采用濕法去膠，成本低效率高，但隨著技術(shù)不斷選代更新，越來(lái)越多IC制造商開(kāi)...

等離子清洗工藝具有效果明顯、操作簡(jiǎn)單的優(yōu)點(diǎn)，在電子封裝(包括半導(dǎo)體封裝、LED封裝等)中得到了廣泛的應(yīng)用。LED封裝工藝過(guò)程中,芯片表面的氧化物及顆粒污染物會(huì)降低產(chǎn)品質(zhì)量,如果在封裝工藝過(guò)程中的點(diǎn)膠前、引線鍵合前及封裝固化前進(jìn)行等離子清洗,則可有效去除這些污染...

在芯片封裝技術(shù)中，等離子體清洗已成為提高成品率的必由之路。先進(jìn)的倒裝芯片設(shè)備在市場(chǎng)上越來(lái)越突出，微波等離子體工藝在穿透模具下面的微小間隙方面。所有表面，無(wú)論模具下的體積大小，都被完全調(diào)節(jié)。達(dá)因特生產(chǎn)的等離子體清洗機(jī)都能很好的處理，提供粘合性和顯著提高的粘附速度...

快速退火爐如其名稱(chēng)所示，能夠快速升溫和冷卻，且快速退火爐在加熱過(guò)程中能夠?qū)崿F(xiàn)精確控制溫度，特別是溫度的均勻性，好的退火爐在500℃以上均勻度能夠保持±1℃之內(nèi)，這樣能夠保證材料達(dá)到所需的熱處理溫度?？焖偻嘶疬^(guò)程的控制涉及時(shí)間、溫度和冷卻速率等參數(shù)，都可以通過(guò)溫...

半導(dǎo)體快速退火爐作為現(xiàn)代半導(dǎo)體制造工藝中的關(guān)鍵設(shè)備，其應(yīng)用之廣、功能之強(qiáng)大，在推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)進(jìn)步中扮演著不可或缺的角色。本文將從多個(gè)維度深入探討半導(dǎo)體快速退火爐能夠處理的各種材料，以及這些處理過(guò)程對(duì)材料性能與半導(dǎo)體器件質(zhì)量的深遠(yuǎn)影響。1. 合金退火通過(guò)熱處理手...

等離子清洗機(jī)在處理樣品表面時(shí)，不會(huì)對(duì)樣品造成損傷，而且不會(huì)產(chǎn)生有害的廢液或廢氣，是一種環(huán)保、安全的表面處理方法。同時(shí)，等離子清洗機(jī)還具有高效、快速、均勻等特點(diǎn)，可以有效地提高表面的附著力和親水性，從而使得涂層更加均勻、牢固。等離子清洗機(jī)在各個(gè)領(lǐng)域都有廣泛的應(yīng)用...

RTP快速退火爐是一種廣泛應(yīng)用在IC晶圓、LED晶圓、MEMS、化合物半導(dǎo)體、歐姆接觸快速合金、離子注入退火、氧化物/氮化物生長(zhǎng)等工藝中的加熱設(shè)備，能夠在短時(shí)間內(nèi)將半導(dǎo)體材料迅速加熱到高溫，具備良好的熱均勻性。RTP快速退火爐提供了更先進(jìn)的溫度控制，可以實(shí)現(xiàn)秒...

隨著科技的進(jìn)步和市場(chǎng)需求的變化，Plasma封裝等離子清洗機(jī)也在不斷進(jìn)行技術(shù)創(chuàng)新和升級(jí)。一方面，為了提高處理效率和效果，研究人員正在探索更高頻率、更高能量的等離子體產(chǎn)生技術(shù)，以及更優(yōu)化的工藝氣體組合和反應(yīng)條件。另一方面，為了滿(mǎn)足不同行業(yè)、不同材料的需求，Pla...

大氣等離子清洗機(jī)為什么在旋轉(zhuǎn)的時(shí)候不會(huì)噴火？工作環(huán)境與條件的影響:在旋轉(zhuǎn)過(guò)程中，大氣等離子清洗機(jī)與周?chē)臍怏w環(huán)境會(huì)產(chǎn)生強(qiáng)烈的相互作用。盡管等離子體能夠達(dá)到較高的溫度，但其形成和維持需要特定的條件。當(dāng)設(shè)備旋轉(zhuǎn)時(shí)，氣體流動(dòng)速度加快，使得氣體變得更為稀薄，進(jìn)而降低了...

RTP（Rapid Thermal Processing）快速退火爐是一種用于半導(dǎo)體器件制造和材料研究的設(shè)備，其工作原理是通過(guò)快速升溫和降溫來(lái)處理材料，以改變其性質(zhì)或結(jié)構(gòu)。RTP退火爐通常用于離子注入退火、ITO鍍膜后快速退火、氧化物和氮化物生長(zhǎng)等應(yīng)用。RTP...

RTP行業(yè)應(yīng)用 氧化物、氮化物生長(zhǎng) 硅化物合金退火 砷化鎵工藝 歐姆接觸快速合金 氧化回流 其他快速熱處理工藝 離子注入***行業(yè)領(lǐng)域： 芯片制造 生物醫(yī)學(xué) 納米技術(shù) MEMS LEDs 太陽(yáng)能電池 化合物產(chǎn)業(yè) ：GaAs，GaN，GaP， GaIn...

RTP快速退火爐是一種常用的熱處理設(shè)備，其工作原理是通過(guò)高溫加熱和快速冷卻的方式，對(duì)材料進(jìn)行退火處理，達(dá)到改善材料性能和組織結(jié)構(gòu)的目的。RTP快速退火爐的工作原理主要分為加熱階段和冷卻階段兩部分。加熱階段是RTP快速退火爐的關(guān)鍵步驟之一。在這個(gè)階段，首先將待處...

在電子電路行業(yè)中，PCB作為電子產(chǎn)品的主要部件，其表面粘附性對(duì)產(chǎn)品的性能有著直接影響。通過(guò)等離子處理，可以提高錫膏與PCB之間的粘附力。有助于確保錫膏印刷的均勻性和穩(wěn)定性，提高電子產(chǎn)品的可靠性和穩(wěn)定性。在PCBA涂敷三防漆前處理中，等離子技術(shù)也發(fā)揮著關(guān)鍵作用。...

低溫等離子清洗機(jī)處理溫度低，全程無(wú)污染，處理效率高，可實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)在線生產(chǎn)。樣品表面經(jīng)過(guò)短時(shí)間處理可以顯著提高材料表面能,親水性,處理效果均勻穩(wěn)定。等離子活化是一種利用等離子體處理技術(shù)對(duì)材料表面進(jìn)行活化處理的方法。等離子體具有對(duì)材料表面活化的作用，因?yàn)榈入x子體包...