系統(tǒng)恢復與運行調整，根據(jù)清洗后膜性能測試結果，對反滲透系統(tǒng)進行必要的運行調整。如果產(chǎn)水量仍未達到預期，可適當調整進水壓力或濃水排放流量，但要注意不能超過膜組件的額定壓力和流量范圍。檢查和維護系統(tǒng)的預處理設備，如機械過濾器、活性炭過濾器等，確保預處理效果良好，防止再次快速污染反滲透膜。例如，檢查過濾器的濾芯是否需要更換，活性炭是否飽和等。記錄清洗過程和清洗后系統(tǒng)的運行數(shù)據(jù)，建立清洗檔案，為今后的清洗操作和系統(tǒng)維護提供參考依據(jù)。在整個清洗過程中，要嚴格遵守安全操作規(guī)程，操作人員應穿戴防護眼鏡、手套、防護服等防護用品，防止化學藥劑接觸皮膚和眼睛。同時，要密切關注清洗設備的運行情況，如有異常應及時停止清洗并進行排查處理。微生物指標：如果反滲透膜受到微生物污染，清洗后可以通過檢測水中的細菌、病毒、藻類等微生物指標來判斷清洗效果。例如，采用平板計數(shù)法檢測細菌菌落數(shù)，清洗后產(chǎn)水中的細菌菌落數(shù)應低于檢測方法的最低檢出限，或者至少比清洗前降低幾個數(shù)量級，如從清洗前的每毫升 100 個菌落降低到每毫升 10 個菌落以下。超純水在材料科學研究中用于制備特殊材料的溶液。應用超純水代加工

例如在電子工業(yè)的半導體制造領域，特別是高精度芯片制造過程中，通常要求超純水的電阻率接近或達到 18.2 MΩ?cm。這是因為芯片制造工藝對水中離子雜質極為敏感，即使微量的離子存在也可能導致芯片性能下降或出現(xiàn)故障。而在一些對水質要求稍低的行業(yè)，如一般的化學分析實驗室，超純水電阻率達到 10 - 18 MΩ?cm 左右也可能滿足基本的實驗需求。對于超純水的微生物含量，通常要求每毫升水中的細菌菌落數(shù)（CFU/mL）低于 10 甚至更低。在一些對微生物極其敏感的領域，如制藥行業(yè)的注射劑生產(chǎn)和生命科學研究中的細胞培養(yǎng)實驗，超純水的微生物標準要求更加嚴格，要求達到無菌狀態(tài)，即每毫升水中的細菌菌落數(shù)幾乎為零。應用超純水代加工超純水的生產(chǎn)需優(yōu)化管道布局減少污染風險。

庫侖滴定法，原理：樣品消解后，過量的氧化劑用電解產(chǎn)生的二價鐵為還原劑進行庫侖滴定，并用電位法判別滴定終點，根據(jù)消耗的電量求出樣品中的 COD 值。適用范圍：適用于各種類型的水樣。優(yōu)點：操作簡便、快速，自動化程度高，無需使用標準溶液滴定，可避免人為誤差。缺點：儀器設備較復雜，成本較高，對水樣的預處理要求較高，且測定結果受水樣中其他可被氧化物質的干擾。測定范圍較窄，精度相對較低，只能求得大體的 COD 范圍，如需準確測量，還需采用其他標準方法。

配置堿性清洗液（如氫氧化鈉溶液）并打入膜組件，按照酸性清洗的類似操作流程進行循環(huán)清洗 30 - 60 分鐘，循環(huán)溫度控制在 30℃ - 40℃。浸泡 15 - 30 分鐘后排放堿性清洗液，排放和收集方式同酸性清洗液處理。再次用清水沖洗膜組件，沖洗時間約 30 - 45 分鐘，確保清洗液被徹底沖洗干凈，監(jiān)測沖洗水的 pH 值和電導率，pH 值接近中性且電導率較低時沖洗完成。氧化劑清洗，當膜污染情況較為嚴重，經(jīng)酸性和堿性清洗后仍未達到理想效果，尤其是懷疑有生物膜或頑固有機物污染時，進行氧化劑清洗。選擇合適的氧化劑清洗劑（如過氧化氫或次氯酸鈉溶液），將其打入膜組件進行循環(huán)清洗，循環(huán)時間 20 - 40 分鐘，循環(huán)過程中要注意控制氧化劑濃度，避免對膜造成過度氧化損傷。清洗后排放氧化劑清洗液，用清水沖洗膜組件，沖洗時間不少于 40 分鐘，同時監(jiān)測沖洗水的相關指標，確保氧化劑被完全清洗干凈。超純水在消防器材制造中用于高精度部件清洗。

各類科學實驗：在化學實驗、生物實驗、物理實驗等實驗室中，超純水常被用作反應物、溶劑或沖洗用水等。例如，在細胞培養(yǎng)實驗中，需要使用超純水來配制培養(yǎng)基，以避免水中的有機污染物和雜質對細胞生長產(chǎn)生影響；在化學分析實驗中，超純水可作為空白對照或用于配制標準溶液，確保實驗數(shù)據(jù)的準確性和可靠性機械過濾：通常采用石英砂過濾器、活性炭過濾器等，去除原水中的懸浮物、泥沙、鐵銹、膠體等大顆粒雜質和部分有機物，保護后續(xù)的反滲透膜。比如，石英砂過濾器可有效截留 5μm 以上的顆粒物質245.軟化處理：若原水硬度較高，還需進行軟化處理，一般使用軟化樹脂過濾器，去除水中的鈣、鎂離子，防止其在反滲透膜表面結垢，影響膜的性能和壽命4.精密過濾：在進入反滲透系統(tǒng)前，經(jīng)過保安過濾器進行精密過濾，進一步去除水中殘留的微小顆粒雜質，確保進水的 SDI 值滿足反滲透膜的要求，通常要求 SDI 值小于 5，保護反滲透膜不受堵塞23.正滲透技術在超純水制備中有潛在應用前景。新型超純水商家

精密儀器清洗需超純水，避免雜質殘留損害儀器。應用超純水代加工

清洗前準備，收集反滲透系統(tǒng)運行數(shù)據(jù)，包括進水壓力、產(chǎn)水壓力、產(chǎn)水量、脫鹽率等參數(shù)在一段時間內的變化曲線，以確定膜性能下降的程度和趨勢。對反滲透膜元件進行取樣分析，可采用掃描電子顯微鏡（SEM）觀察膜表面的污染物形態(tài)，通過傅里葉變換紅外光譜（FTIR）分析污染物的化學成分，從而確定主要的污染類型，如無機鹽垢、有機物污染、生物膜污染等。準備清洗設備與藥劑，清洗水箱：選用耐腐蝕、耐酸堿且與清洗液不發(fā)生反應的材質制成的水箱，容量根據(jù)膜組件數(shù)量和清洗液用量確定，一般要保證有足夠的空間容納清洗液并能進行循環(huán)操作，例如，對于一套處理量為 100m3/h 的反滲透系統(tǒng)，清洗水箱容量可選擇 5 - 10m3。清洗泵：泵的流量和揚程應滿足清洗要求，流量一般為膜組件正常運行流量的 1/3 - 1/2，揚程要能克服膜組件和管道的阻力并提供一定的循環(huán)動力，如選用流量為 30 - 50m3/h、揚程為 30 - 50m 的離心泵。應用超純水代加工