Nanoscribe的PhotonicProfessionalGT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性配合打印材料的多方面選擇性，可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作，例如用光敏聚合物，納米顆粒復(fù)合物，或水凝膠打印的遠(yuǎn)程操控可移動(dòng)微型機(jī)器人，并可以選擇添加金屬涂層。此外，微納米器件也可以直接打印在不同的基材上，甚至可以直接打印于微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）。雙光子灰度光刻技術(shù)可以一步實(shí)現(xiàn)真正具有出色形狀精度的多級(jí)衍射光學(xué)元件（DOE），并且滿(mǎn)足DOE納米結(jié)構(gòu)表面的橫向和縱向分辨率達(dá)到亞微米量級(jí)。由于需要多次光刻，刻蝕和對(duì)準(zhǔn)工藝，衍射光學(xué)元件（DOE）的傳統(tǒng)制造耗時(shí)長(zhǎng)且成本高。而利用增材制造即可簡(jiǎn)單一步實(shí)現(xiàn)多級(jí)衍射光學(xué)元件，可以直接作為原型使用，也可以作為批量生產(chǎn)母版工具。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)Quantum X，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。湖北無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印

Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。江蘇德國(guó)無(wú)掩膜光刻微納光刻N(yùn)anoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)的發(fā)展。

Nanoscribe稱(chēng)，QuantumX是世界上**基于雙光子灰度光刻技術(shù)（two-photongrayscalelithography，2GL）的工業(yè)系統(tǒng)，目前該技術(shù)正在申請(qǐng)專(zhuān)利。2GL將灰度光刻技術(shù)與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)相結(jié)合，可生產(chǎn)折射和衍射微光學(xué)以及聚合物母版的原型。該系統(tǒng)配備三個(gè)用于實(shí)時(shí)過(guò)程控制的攝像頭和一個(gè)樹(shù)脂分配器。為了簡(jiǎn)化硬件配置之間的轉(zhuǎn)換，物鏡和樣品夾持器識(shí)別會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。多層衍射光學(xué)元件（diffractiveopticalelement，DOE）可以通過(guò)在掃描平面內(nèi)調(diào)制激光功率來(lái)完成，從而減少多層微制造所需的打印時(shí)間。Nanoscribe表示，折射微光學(xué)也受益于2GL工藝的加工能力，可制作單個(gè)光學(xué)元件、填充因子高達(dá)100%的陣列，以及可以在直接和無(wú)掩模工藝中實(shí)現(xiàn)各種形狀，如球面和非球面透鏡。QuantumX的軟件能實(shí)時(shí)控制和監(jiān)控打印作業(yè)，并通過(guò)交互式觸摸屏控制面板進(jìn)行操作。為了更好地管理和安排用戶(hù)的項(xiàng)目，打印隊(duì)列支持連續(xù)執(zhí)行一系列打印作業(yè)。

德國(guó)公司Nanoscribe是高精度增材制造技術(shù)的帶領(lǐng)開(kāi)發(fā)商，也是BICO集團(tuán)（前身為Cellin）的一部分，推出了一款新型高精度3D打印機(jī)，用于制造微納米級(jí)的精細(xì)結(jié)構(gòu)。據(jù)該公司稱(chēng)，新的QuantumX形狀加入了該公司屢獲殊榮的QuantumX產(chǎn)品線(xiàn)，其晶圓處理能力使“3D微型零件的批量處理和小批量生產(chǎn)變得容易”。它有望顯著提高生命科學(xué)、材料工程、微流體、微光學(xué)、微機(jī)械和微機(jī)電系統(tǒng)(MEMS)應(yīng)用的精度、輸出和可用性?；陔p光子聚合(2PP)，一種提供比較高精度和完整設(shè)計(jì)自由度的增材制造方法和Nanoscribe專(zhuān)有的雙光子灰度光刻(2GL)技術(shù)，Nanoscribe認(rèn)為直接激光寫(xiě)入系統(tǒng)是微加工的比較好選擇幾乎任何2.5D或3D形狀的結(jié)構(gòu)，在面積達(dá)25cm2的區(qū)域上都具有亞微米級(jí)精度。Nanoscribe的聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席安全官(CSO)MichaelThiel表示，該公司正在通過(guò)其新機(jī)器為科學(xué)和工業(yè)用途的晶圓級(jí)高精度微制造設(shè)定新標(biāo)準(zhǔn)。“雖然QuantumX已經(jīng)通過(guò)雙光子灰度光刻技術(shù)推動(dòng)了平面微光學(xué)器件的超快速制造，但我們希望QuantumX形狀能夠使基于雙光子聚合的高精度3D打印成為非常出色的高效可靠工具用于研究實(shí)驗(yàn)室和工業(yè)中的快速原型制作和批量生產(chǎn)。”Nanoscribe的Quantum X無(wú)掩模光刻系統(tǒng)在LASER World of Photonics展會(huì)上榮獲創(chuàng)新獎(jiǎng)。

作為基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的微細(xì)加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者，Nanoscribe在全球30多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶(hù)群體?！拔覀?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的2PP技術(shù)而感到自豪，憑借我們的技術(shù)支持，我們的客戶(hù)實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿(mǎn)活力、屢獲殊榮的公司，與客戶(hù)保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場(chǎng)地位的關(guān)鍵”Nanoscribe聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官M(fèi)artinHermatschweiler表示。基于2PP微納加工技術(shù)方面的專(zhuān)業(yè)知識(shí)，Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持，并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展。“我們非常期待加入CELLINK集團(tuán)，共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來(lái)所帶來(lái)的更大機(jī)遇”MartinHermatschweiler說(shuō)道。無(wú)掩膜光刻機(jī)可以讀取任何CAD數(shù)據(jù)。湖北無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印

Photonic Professional GT在微納米3D打印，以及無(wú)掩模光刻領(lǐng)域樹(shù)立了行業(yè)內(nèi)新的標(biāo)竿。湖北無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印

QuantumXshape在3D微納加工領(lǐng)域非常出色的精度，比肩于Nanoscribe公司在表面結(jié)構(gòu)應(yīng)用上突破性的雙光子灰度光刻(2GL®)。全新的QuantumXshape的高精度有賴(lài)于其高能力的體素調(diào)制比和超精細(xì)處理網(wǎng)格，從而實(shí)現(xiàn)亞體素的尺寸控制。此外，受益于雙光子灰度光刻對(duì)體素的微調(diào)，該系統(tǒng)在表面微結(jié)構(gòu)的制作上可達(dá)到超光滑，同時(shí)保持高精度的形狀控制。QuantumXshape不只是應(yīng)用于生物醫(yī)學(xué)、微光學(xué)、MEMS、微流道、表面工程學(xué)及其他很多領(lǐng)域中器件的快速原型制作的理想工具，同時(shí)也成為基于晶圓的小結(jié)構(gòu)單元的批量生產(chǎn)的簡(jiǎn)易工具。通過(guò)系統(tǒng)集成觸控屏控制打印文件來(lái)很大程度提高實(shí)用性。通過(guò)系統(tǒng)自帶的nanoConnectX軟件來(lái)進(jìn)行打印文件的遠(yuǎn)程監(jiān)控及多用戶(hù)的使用配置，實(shí)現(xiàn)推動(dòng)工業(yè)標(biāo)準(zhǔn)化及基于晶圓批量效率生產(chǎn)。湖北無(wú)掩膜光刻技術(shù)3D打印