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廣東國產(chǎn)CeYAP晶體元件

來源: 發(fā)布時間:2022-10-16

CeYAG晶體應該如何退火?研究了Ce:YAP晶體的自吸收機制。在實際應用中,國產(chǎn)Ce: YAP晶體存在嚴重的自吸收問題,直接影響晶體的發(fā)光效率。比較了鈰離子濃度、退火、輻照和雜質(zhì)對鈰: YAP晶體自吸收的影響。通過分析Ce: YAP晶體的自吸收機制,發(fā)現(xiàn)在YAP中存在一個Ce4離子的寬帶電荷轉移吸收峰,其半峰全寬接近100納米。結果表明,還原Ce4離子可以被Ce: YAP晶體的自吸收,Ce4離子可以明顯猝滅Ce3離子的發(fā)光。 不同氣氛生長Ce:YAP晶體透過和熒光譜有什么不同?有觀點認為YAP晶體的本征紫外發(fā)光中心與反位缺陷YAl3+有關。廣東國產(chǎn)CeYAP晶體元件

Mn: YAP 和Ce, Mn: YAP 的熒光激發(fā)發(fā)射譜,714nm 和685nm發(fā)射峰為Mn4+ 離子 2E - 4A2 躍遷[113]。332 nm, 373 nm 和 480 nm ( λem=714nm) 分別屬于Mn4+離子的4A2→4T1 (4F), 4A2→4T1 (4P), 4A2→4T2 躍遷。Ce, Mn: YAP 晶體的Ce3+ 的發(fā)射峰在397nm,比Ce: YAP 晶體紅移了近30 nm,主要是Mn4+ 離子的吸收造成的。圖 4-49 中,Mn: YAP 和Ce, Mn: YAP在480 nm的吸收峰屬于Mn4+ 離子的4A2→4T2 躍遷,另從透過譜可知,Mn離子摻雜后Ce: YAP的透過邊有明顯紅移動,并且整體透過性能降低。廣東國產(chǎn)CeYAP晶體元件CeYAP晶體在對閃爍晶體CeYAP的研究過程中 ,發(fā)現(xiàn)了YAP晶體的變色現(xiàn)象。

晶體中e3的電子結構、能級結構和發(fā)光特性,給出了鑭系元素的電子殼層結構和離子半徑。從表中可以看出,Ce元素的電子結構為[Xe]4f15d16s2,所以Ce3的電子結構以[Xe]4f1為特征,Ce3的內(nèi)部電子結構為惰性原子結構,0外層只有一個電子結構,所以Ce3在晶體中具有獨特的能級結構和發(fā)光特性:Ce3離子的一個電子在4f能級上L=3,在5d能級上L=2,它們的宇稱不同,所以Ce3離子的5d-4f躍遷是允許的電偶極子躍遷。在這個允許的5d-4f躍遷中,電子在5d能級的壽命很短,一般在低5d能級的30~100ns,所以作為閃爍晶體的發(fā)光中心,它的衰變時間很短。

目前國內(nèi)生長的Ce: YAP晶體仍存在出光率低的問題,其機理應該與自吸收有關,但尚未得到有效解決。為了比較不同退火條件下退火對自吸收的影響,我們測量了相同厚度(2mm)和濃度(0.3%)的Ce: YAP晶體在不同溫度和氣氛下退火后的透射光譜、熒光光譜和XEL光譜。從圖4-8可以看出,直拉法生長的Ce: YAP晶體經(jīng)氫退火后透射邊藍移,自吸收減弱。當進行氧退火時,通過邊緣紅移增強了自吸收。氫的退火溫度越高,自吸收越弱。氧的退火溫度越高,自吸收越強。然而,退火溫度的上限約為1600。如果溫度太高,晶體容易起霧,導致幾乎不滲透。由于過渡金屬離子d層電子能級較多,且易受晶場影響,在YAP晶體中可能存在較多吸收帶。

過渡金屬離子摻雜對YAP晶體透射邊緣的影響,由于過渡金屬離子D層具有更多的電子能級,容易受到晶場的影響,因此YAP晶體中可能存在更多的吸收帶。為了了解過渡金屬摻雜對Ce: YAP自吸收的可能影響,我們比較了摻雜過渡金屬如銅(0.5%)、鐵(0.5%)和錳(0.5%)的純YAP晶體的透射光譜。從圖4-11可以看出,Mn摻雜的yap在480nm處有明顯的吸收峰,而Cu摻雜的YAP在370nm左右有吸收峰,F(xiàn)e摻雜的YAP將在下一節(jié)討論。我們生長的Ce: YAP在350nm ~ 500nm范圍內(nèi)沒有額外的吸收峰,少量過渡金屬離子的存在只會對吸收產(chǎn)生線性疊加效應,低濃度吸收不足以引起Ce: YAP晶體的自吸收,因此過渡金屬離子污染不太可能引起Ce3360Yap吸收帶紅移。同時,GDMS分析結果還表明,我們生長的Ce: YAP晶體中過渡金屬的含量小于10ppm,對晶體發(fā)光的影響可以忽略不計。CeYAP作為閃爍晶體,用水平區(qū)熔法生長了CeYAP閃爍晶體。山東雙折射CeYAP晶體供應商

Ce:YAP晶體在弱還原氣氛中生長,發(fā)現(xiàn)晶體的自吸收被有效壓制。廣東國產(chǎn)CeYAP晶體元件

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